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勻膠旋涂儀的工作流程概述

更新時(shí)間:2022-09-08       點(diǎn)擊次數(shù):2006
勻膠旋涂儀是把膠均勻地涂在基片上的一種機(jī)器。廣泛應(yīng)用于微電子、半導(dǎo)體、新能源、化工材料、生物材料、光學(xué),硅片、載玻片,晶片,基片,ITO 導(dǎo)電玻璃等工藝制版表面涂覆等。

勻膠旋涂儀的勻膠過程包括滴膠,高速旋轉(zhuǎn)以及干燥(溶劑揮發(fā))幾個(gè)步驟。

1、滴膠這一步把光刻膠滴注到基片表面上,高速旋轉(zhuǎn)把光刻膠鋪展到基片上形成簿層,干燥這一步除去膠層中多余的溶劑。

2、勻膠轉(zhuǎn)速是勻膠過程中重要的因素?;霓D(zhuǎn)速不僅影響到作用于光刻膠的離心力,而且還關(guān)系到緊挨著基片表面空氣的*湍動和基片與空氣的相對運(yùn)動速度。膜厚在很大程度上是作用于液體光刻膠上﹑方向朝基片邊緣的剪刀力與影響光刻膠粘度的干燥(溶劑揮發(fā))速率之間平衡的結(jié)果。隨著光刻膠中溶劑不斷揮發(fā),粘度越來越大,直到基片旋轉(zhuǎn)作用于光刻膠的離心力不再能使光刻膠在基片表面移動。到這個(gè)點(diǎn)上,膠膜厚度不會隨勻膠時(shí)間延長而變薄。

3、勻膠過程中基片的加速度也會對膠膜的性能產(chǎn)生影響。因?yàn)樵诨D(zhuǎn)的第一階段,光刻膠就開始干燥(溶劑揮發(fā))了。所以準(zhǔn)確控制加速度很重要。

4、勻膠過程中光刻膠的干燥速度不僅取決于光刻膠的自身性質(zhì),而且還取決于勻膠過程中基片周圍的空氣狀況。光刻膠的干燥速度與此相似,也受周圍環(huán)境條件的影響。勻膠的時(shí)候,減小基片上面的空氣的流動,以及因空氣流動引起的湍流,或者至少保持穩(wěn)定也是十分重要的。

本公司提供的CIF勻膠旋涂儀有多重安全保護(hù)。電磁安全開關(guān),蓋子打開卡盤停止,保證安全;蓋子自鎖功能,防止飛片蓋彈開傷人;雙重安全上蓋,聚四氟嵌鑲鋼化玻璃,避免單一玻璃或者亞克力上蓋飛片傷人,*大限度保證實(shí)驗(yàn)人員安全。

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