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CIF 推出的新一代科研型等離子清洗設(shè)備，合理的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，優(yōu)化的腔體尺寸，使得處理樣品更大，適用范圍更廣。CIF等離子清洗機(jī)F系列性能穩(wěn)定，操作簡(jiǎn)單方便，易維護(hù)。

CIF勻膠機(jī)轉(zhuǎn)速穩(wěn)定、啟動(dòng)迅速，旋涂均勻，操作簡(jiǎn)單，結(jié)構(gòu)緊湊實(shí)用，為實(shí)驗(yàn)室提供了理想的解決方案。廣泛應(yīng)用于微電子、半導(dǎo)體、新能源、化工材料、生物材料、光學(xué)，硅片、載玻片，晶片，基片，ITO 導(dǎo)電玻璃等工藝制版表面涂覆等。

CIF 透射電鏡（TEM）樣品桿清洗機(jī)采用遠(yuǎn)程離子清洗源 設(shè)計(jì)，清洗快速高效， 低轟擊損傷， 同時(shí)可實(shí)現(xiàn)常規(guī)等離子清洗。透射電鏡樣品桿清洗機(jī)主要用于 TEM透射電鏡樣品桿的等離子體清洗和真空檢漏。

紫外臭氧清洗機(jī)（UVOzone Cleaner, UVO），是一種簡(jiǎn)單，經(jīng)濟(jì)，快速高效的材料表面清洗設(shè)備，能快速去除大多數(shù)無(wú)機(jī)基材（比如石英，硅片，金，鎳，鋁，砷化鎵，氧化鋁等）表面上的有機(jī)污染物。

CIF 推出 RIE 反應(yīng)離子刻蝕機(jī)，采用 RIE 反應(yīng)離子誘導(dǎo)激發(fā)方式，實(shí)現(xiàn)對(duì)材料表面各向異性的微結(jié)構(gòu)刻蝕。特別適合于大學(xué)、科研院所，微電子、半導(dǎo)體企業(yè)實(shí)驗(yàn)室進(jìn)行介質(zhì)刻蝕、硅刻蝕、金屬刻蝕等方面研究。使用成本低，性價(jià)比高，易維護(hù)，處理快速高效。RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)適用于所有的基材及復(fù)雜的幾何構(gòu)形進(jìn)行 RIE 反應(yīng)離子刻蝕。

CIF推出全新一代 CPC-10系列實(shí)驗(yàn)室型等離子體清洗設(shè)備， 改變傳統(tǒng)等離子體清洗設(shè)備設(shè)計(jì)理念。具有較大的腔體尺寸和有效樣 品處理面積， 使用成本低， 性價(jià)比高， 處理快速高效， 特別適合于大學(xué)， 科研院所和光電企業(yè)實(shí)驗(yàn)室小批量中試生產(chǎn)。

CIF推出全新一代 CPC-G系列實(shí)驗(yàn)室型等離子體清洗設(shè)備， 改變傳統(tǒng)等離子體清洗設(shè)備設(shè)計(jì)理念。CIF實(shí)驗(yàn)室型等離子清洗機(jī)具有較大的腔體尺寸和有效樣 品處理面積， 使用成本低， 性價(jià)比高， 處理快速高效， 特別適合于大學(xué)， 科研院所和光電企業(yè)實(shí)驗(yàn)室小批量中試生產(chǎn)。

CIF 推出的新一代科研型等離子清洗設(shè)備，合理的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，優(yōu)化的腔體尺寸，使得處理樣品更大，適用范圍更廣。 CIF實(shí)驗(yàn)室型等離子清洗機(jī)CPC-F系列性能穩(wěn)定，操作簡(jiǎn)單方便，易維護(hù)。