簡(jiǎn)要描述:英國(guó)Ossila紫外臭氧清洗機(jī)(UVO),是一種簡(jiǎn)單,經(jīng)濟(jì),快速的材料表面清洗設(shè)備,只需把樣品放置到樣品盤上,關(guān)上艙門,設(shè)置時(shí)間,并按運(yùn)行,就可以了,能快速去除大多數(shù)無(wú)機(jī)基材(比如石英,硅片,金,鎳,鋁,砷化鎵,氧化鋁等)上的有機(jī)污染物。特別是當(dāng)基材和薄膜蒸鍍需要很好的粘接時(shí),紫外清洗非常理想。要獲得超潔凈的表面,只需要在傳統(tǒng)清洗后,再用紫外臭氧清洗幾分鐘就可獲得!
產(chǎn)品分類
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品牌 | Ossila/歐西拉 | 產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 |
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應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,食品,化工,地礦 |
紫外臭氧清洗機(jī)(UVO)
英國(guó)Ossila公司提供的紫外臭氧清洗機(jī)(UVO),是一種簡(jiǎn)單,經(jīng)濟(jì),快速的材料表面清洗設(shè)備,只需把樣品放置到樣品盤上,關(guān)上艙門,設(shè)置時(shí)間,并按運(yùn)行,就可以了,能快速去除大多數(shù)無(wú)機(jī)基材(比如石英,硅片,金,鎳,鋁,砷化鎵,氧化鋁等)上的有機(jī)污染物。特別是當(dāng)基材和薄膜蒸鍍需要很好的粘接時(shí),紫外清洗非常理想。要獲得超潔凈的表面,只需要在傳統(tǒng)清洗后,再用紫外臭氧清洗幾分鐘就可獲得!
目前紫外臭氧清洗機(jī)的主要應(yīng)用表面UV光清洗和表面UV光改質(zhì)。
u 表面UV光清洗:利用紫外光以及由其產(chǎn)生的臭氧OZONE,對(duì)有機(jī)物質(zhì)所起的光敏氧化分解作用,以達(dá)到去除粘附在物體表面上的有機(jī)化合物(碳?xì)浠衔铮?,獲得超潔凈的表面。
u 表面UV光改質(zhì):利用紫外光照射有機(jī)表面,在將有機(jī)物分解的同時(shí),254nm波長(zhǎng)的紫外光被物體表面吸收后,將表層的化學(xué)結(jié)構(gòu)切斷,光子作用產(chǎn)生原子氧會(huì)與被切斷的表層分子結(jié)合,并將之變換成具有高度親水性的官能基(如-OH,-CHO,-COOH),從而提高表面的浸潤(rùn)性。
主要應(yīng)用
石英/玻璃制品的表面清洗:液晶面板,等離子電視屏幕,彩色過濾片,光罩,棱鏡,透鏡,反射鏡,平板電視等。
微電子產(chǎn)品的表面清洗:微型馬達(dá)軸,磁頭驅(qū)動(dòng)架,光盤,光電器件,手機(jī)攝像頭,微型喇叭/受話器震膜,半導(dǎo)體硅片,掩膜版。
精密集成電路的表面清洗:液晶顯示器ITO,精密電路板,軟性電路板接頭,BGA基板的清洗,COG的清洗,COF(ILB)接合面的清洗,薄膜基板的清洗,金屬基板的清洗,BGA基板與粘結(jié)墊的清洗。
在膠粘接或是印刷之前,對(duì)高分子聚合制品的表面改性:橡膠粘接,塑料汽車部件,透鏡保護(hù)膜,塑料薄膜,樹脂成型空氣袋,IC包裝,注射針接合部份的表面性,介入導(dǎo)管的表面改型等。
科研過程的表面清洗及處理:半導(dǎo)體,生物芯片,納米材料,聚合物,光化學(xué)等。
產(chǎn)品特點(diǎn)
成本低。
120x120mm樣品臺(tái)。
大處理樣品高14mm。
抽屜式樣品臺(tái),簡(jiǎn)單方便。
樣品臺(tái)自動(dòng)安全開關(guān),打開UV自動(dòng)關(guān)閉,防止對(duì)人身傷害。
LCD屏顯示“已用時(shí)間"和“剩余時(shí)間"。
UVO顯示器
60分鐘定時(shí)器。
高強(qiáng)度UV燈源。
可控溫的樣品臺(tái)。
樣品清洗無(wú)需溶劑。
超凈表面。
UVO樣品托盤
二、技術(shù)參數(shù)
紫外燈類型 | 低壓石英水銀蒸汽燈 |
紫外線燈的主要波長(zhǎng) | 185nm和254nm |
UV燈管尺寸 | 100x100mm |
UV燈電源 | 4000V,30mA |
UV燈壽命 | 每天使用可用8-10年 |
適用電壓 | 230V,0.6A,50Hz//opt.(110V,1.2A,60Hz) |
大運(yùn)行時(shí)間 | 59分59秒 |
安全 | 安全聯(lián)鎖,高溫報(bào)警,高溫?cái)嚯姟?/span> |
托盤尺寸 | 120x120mm |
大樣品尺寸 | 100x100mm |
總尺寸 | 長(zhǎng)204mm、高227mm、寬300mm |
在紫外線臭氧清洗前水滴在OTS-treated硅基質(zhì)上(300nm二氧化硅表面)(左)紫外臭氧清洗10分鐘后(右)。
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